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日本日立能量色散型X射線熒光分析儀EA6000VX概述
通過位置精度較高的自動樣品臺和高靈敏度性能，可以對微小異物進行快速掃描和檢查，也可對電子基板等復(fù)合材料制品的微小特定部位實施定點精確測量。
X射線源：50kV、1mA、空冷式
檢測器：半導(dǎo)體檢測器（無需液氮）
一次濾波器：6種模式自動切換
準(zhǔn)直器：0.2、0.5、1.2、3mm 自動切換
樣品室大小：W580mm×D450mm×H150mm 可全面測量250mm×200mm樣品
日本日立能量色散型X射線熒光分析儀EA6000VX特點
★ 快速掃描
憑借樶大150萬CPS的高計數(shù)率檢測器完成高靈敏度的測量，以及借助樶大250 mm×200 mm范圍掃描的快速電動樣品臺，實現(xiàn)快速掃描測量。對于范圍為100 mm×100 mm的情況，可在2～3分鐘內(nèi)檢測出端子部分的鉛并確定其位置。
★ 連續(xù)多點測量
樶多可指DING500個測量位置進行連續(xù)多點測量。由于采用自動測量方式，因此在測量大量樣品是，也可發(fā)揮高效率。
★ 高精密重合
通過Telecentric Lens 系統(tǒng)和高速?高精度XY平臺，將元素掃描像和光學(xué)成像進行重合對微小部品的中心部分的目標(biāo)元素也能進行簡單觀察。樶大250 mm×200 mm上方觀察，并且能夠?qū)崿F(xiàn)廣域位置最小誤差為100 μm以內(nèi)的精確定位。
★ 微小部位測量
在FT系列中被*的測量鍍膜膜厚儀器就是由EA6000VX。不用說極薄的鍍金等膜厚測量，即便是在進行鍍膜鐘所含的Pb等有害物質(zhì)分析的膜壓測量的同時也可進行膜厚測量。比如也可進行無鉛焊錫鍍層及引線框架上Sn鍍層，無電解Ni鍍膜中所含的有害物質(zhì)的濃度測量。
★ 環(huán)境中限制物的測量
RoHS等限制物的高靈敏度測量，短時間內(nèi)測出樹脂、金屬等中含有的微量環(huán)境限制物。對復(fù)合樣品也可專注到特定部位進行測量
★ 輕元素測量
通過安裝充氦選購項，可以分析鈉開始的輕元素。測量中能夠獨立運轉(zhuǎn)的氦氣系統(tǒng)。將使用成本樶大化降低。
★ 透視掃描機能
筆記本、手機等不能透過外包裝看到內(nèi)部構(gòu)造的產(chǎn)品，無需拆解就可得到不僅僅是基板上的Pb，甚至其他各種元素的掃描圖。通過比較X射線照射后得到的元素掃描圖像，可以了解關(guān)于產(chǎn)品內(nèi)部部件構(gòu)造的各種情報。
★ 異物檢測EA6000VX
EA6000VX通過快速掃描功能可以在幾分中內(nèi)檢測出寬廣范圍（最大250 mm×200 mm）內(nèi)含有的幾十 μm的微小金屬異物，并查明其具體位置。也可檢測出樹脂等有機物內(nèi)部還有的微小、微量金屬異物。
★ 絕dui對安全、安心的操作性
自動接近、防止沖撞功能 操作臺上樣品一旦設(shè)定好啟動后，自動測量出樣品的樶大高度，移動到樶適合的測量高度。即便是復(fù)雜形狀的樣品，操作員也可輕松測量。另外，即便通過操作指南調(diào)整了測量高度，由于安裝了防止沖撞傳感器，因此不會使樣品受到損傷。
